納米二氧化硅拋光液
納米二氧化硅拋光液產品概述:二氧化硅拋光粉產品均是以高純硅粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度顆粒均勻,分散性好,切削力好,鏡面效果好的拋光粉,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,拋光范圍:硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦,精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光拋光特點:具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點。如:硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石
全國服務熱線:
18167136000納米二氧化硅拋光液產品概述:二氧化硅拋光粉產品均是以高純硅粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度顆粒均勻,分散性好,切削力好,鏡面效果好的拋光粉,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,拋光范圍:硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦,精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光拋光特點:具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點。如:硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石
全國服務熱線:
18167136000納米二氧化硅拋光液
產品概述:
二氧化硅拋光粉產品均是以高純硅粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度顆粒均勻,分散性好,切削力好,鏡面效果好的拋光粉,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,
拋光范圍:硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦,精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光
拋光特點:具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點。如:硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石玉器等的拋光加工。
應用范圍:納米氧化硅分散液具有粒徑小,溶度高,分散好等特點,用在拋光液中,以化學作用為主,添加螯合劑,活性劑,可以解決表面粗糙度,波紋度,表面缺陷等傳統問題,可以做光學鏡面拋光,寶石鏡面拋光等精密拋光
技術指標:
型號 | 外觀 | 粒徑 nm | 含量 % | 溶劑 | 產品特性及應用 |
HN-SP10W | 半透明液體 | 10 | 20 | 水 | 精密拋光,寶石拋光 |
HN-SP30W | 白色乳液 | 30 | 30 | 水 | 精密拋光,寶石拋光 |
HN-SP50W | 白色乳液 | 50 | 30 | 水 | 精密拋光,寶石拋光 |
HN-SP100W | 白色乳液 | 100 | 30 | 水 | 精密拋光,寶石拋光 |
公司現生產的產品:納米二氧化鈦(超活性納米二氧化鈦光觸媒)、納米氧化鋁(高純氧化鋁4N、5N、6N)、納米氧化鋯(單斜、3Y、5Y、8Y)、納米二氧化硅、納米氧化鋅、納米氧化鎂、納米ATO、納米負離子、納米二氧化鈦銀抗菌劑、納米氧化鈰、納米氧化釔、納米氧化鑭等稀土氧化物系列粉體和液體等。
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